
這一分析流程中廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體封裝的深埋結(jié)構(gòu)分析中。利用蔡司X射線顯微鏡和搭載飛秒激光系統(tǒng)的蔡司雙束電鏡Crossbeam Laser(LaserFIB),準(zhǔn)確定位樣品的目標(biāo)區(qū)域,并進(jìn)一步進(jìn)行高分辨成像拍攝和EDS分析。
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以后再說X分類:公司新聞 發(fā)布時(shí)間:2024-05-06 13519次瀏覽
這一分析流程中廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體封裝的深埋結(jié)構(gòu)分析中。利用蔡司X射線顯微鏡和搭...
這一分析流程中廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體封裝的深埋結(jié)構(gòu)分析中。利用蔡司X射線顯微鏡和搭載飛秒激光系統(tǒng)的蔡司雙束電鏡Crossbeam Laser(LaserFIB),準(zhǔn)確定位樣品的目標(biāo)區(qū)域,并進(jìn)一步進(jìn)行高分辨成像拍攝和EDS分析。
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